大尺寸、紫外級CaF2單晶是193nm DUV光刻機照明系統、投影物鏡系統、紫外光源等部分的核心元器件材料，是光刻機國產化"卡脖子”的關鍵材料。目前，紫外光刻級CaF2 晶體全部依賴進口。
研發團隊超60%人員具有碩士以上學歷。
項目曾獲02專項支持，並計劃列入國家"十四五”規劃。